氧化鋯靶材
產(chǎn)品介紹
以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層,從而制備出高純度、高致密度ZrOx靶材。
應(yīng)用領(lǐng)域
光學(xué)玻璃AR膜系
Low-E鍍膜玻璃
工具鍍膜和裝飾鍍膜
產(chǎn)品介紹
以等離子體為熱源將相應(yīng)粉末加熱到熔融或半熔融狀態(tài)并高速沖擊背管表面形成致密涂層,從而制備出高純度、高致密度ZrOx靶材。
應(yīng)用領(lǐng)域
光學(xué)玻璃AR膜系
Low-E鍍膜玻璃
工具鍍膜和裝飾鍍膜
| 組份(wt%) | 氧化鋯 |
| 純度(%) | ≥99.9 |
| 密度(g/cm3) | ≥5.4 |
| 雜質(zhì)含量 | Al≤100 Cr≤50 Ti≤100 Fe≤200 |
| 雜質(zhì)總和≤1000 | |
| 電阻率(Ω·cm) | ≤0.5 |
| 背管材質(zhì) | 選用304/316L不銹鋼(無磁) |
| 靶材尺寸 | 按照圖紙要求加工 |
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